Labs

微觀能譜顯微技術領域

 S P E C T R O - M I C R O S C O P Y  

S 1

電子顯微學組

原子解析電子能譜顯微術之開發,及基於材料結構與物理特性分析之應用。

雷射光學組

發展頻析及時析光譜技術,以研究各種材料之靜態特性及超快動態行為,促進研發具獨特功能之電子及光電材料與元件。

S 3

表面奈米科學組

材料表面與介面的物理與化學現象,表面分子吸附,奈米或原子尺度下結構與性質的關聯。近期著重一、二維晶體與超薄膜的表面現象與電荷密度波,與射頻反射顯微鏡技術之開發應用。

Chen lab

奈米物理組

研究奈米尺度的光、電、熱、與機械現象並發展其應用潛力。


新穎尖端材料領域

E M E R G E N T  M A T E R I A L S  &  A D V A N C E D  D E V I C E S  

E 4

無機尖端材料組

以碳與氮元素為基本物質,製作低維度奈米尺度之半導體晶體與薄膜,以開發其特殊之光電性能。並發展新穎尖端單晶材料、配合前瞻材料凝態物理研究。

E 5

尖端薄膜異質結構與自旋電子組

尖端磁電及奈米氧化物材料與元件之開發。

E 3

半導體物理與奈米電子組

設計及IV-IV族半導體、分子束磊晶 (矽,鍺,錫等元素)。研究著重於:(a) 奈米結構的光電物理 (低溫及高磁場下之測量),及(b) 發展下世代以矽為基材的光電器件,如矽基材紅外器件,鍺為基礎的電晶體等。

E 2

有機分子材料組

共軛性有機分子、碳六十衍生物及高分子材料的結構設計、化學合成及其在有機光電元件上的應用。

E 1

理論模擬與材料計算組

以理論與計算方法研究各種材料的物化性質,並發展分子理論以提供非線性光學材料的研究。

Hp

高壓技術與先端材料組

利用超高壓固態化學合成先端新穎材料,並利用高壓量測與單晶繞射技術,系統性進行晶體結構對稱性元素分析,研究溫度與壓力相變化機制,並以結構觀點說明材料之特異物性。

Wu lab

界面材料化學組

材料界面結構與反應性、電化學、新穎二次電池、催化反應、臨場鑑定技術